關(guān)于Gener系列
Gener-1300
本裝置是為減反射光學(xué)薄膜的大批量生產(chǎn)而設計制作的光學(xué)鍍膜機。
- 特征
- 采用了磁流體密封技術(shù)的中心旋轉式基板架,保證了薄膜產(chǎn)品的重復性與均勻性
- 優(yōu)化的排氣特性和升溫能力使鍍膜時(shí)間縮短
- 可以加裝用于對應高精度AR鍍膜的多層膜用可靠的光控儀 (optional)
- 規格
- 真空室 SUS304,Ф1300mm×1500mm(H)
- 基板架 4片式工作架(或Ф1200 mm)
- 基板架轉速 最大30rpm(可調)
- 晶振式膜厚計 XTC/3+6點(diǎn)式水晶傳感器
- 蒸發(fā)源 電子槍1臺
- 性能
- 極限真空 7.0 × 10-5 Pa 以下
- 抽氣速度 10分(大氣壓~3.0×10-3Pa)
- 基板最高加熱溫度 最高350℃
- 工作條件
- 安裝空間 約4500mm(W)×6000mm(D)×3200mm(H)
- 電力 3相,200V,50/60Hz,約80KVA
- 水流量 100升/分以上
- 壓縮空氣壓力 0.5-0.7MPa
- 重量 約5000kg