關(guān)于SPUTTER系列

NSC-15型設備是可用于批量生產(chǎn)光學(xué)薄膜的濺射鍍膜機,采用金屬模式濺射技術(shù)并搭載高反應性等離子體源。 另配備了上下片搬送系統,可實(shí)現高產(chǎn)量的生產(chǎn)。

特征
可裝載4種靶材
陰極可替換為其它部件
雙旋轉滾筒陰極可穩定放電
高反應等離子體源用于低吸收膜
自動(dòng)上下片基板搬送系統
規格
真空腔體 裝片室:304不銹鋼,寬500mm×深800 mm×高2890 mm
工藝室:304不銹鋼,直徑1650 mm×高1200 mm
基板夾具 可選13 – 22片
旋轉滾筒系統: 直徑1500 mm, 滾筒式, 10 rpm - 100 rpm
反應源 ICP(電感耦合等離子體)
濺射源 雙旋轉陰極(可選平面靶材)
真空系統 粗抽泵,分子泵
性能
極限壓力 裝片室:10Pa
工藝室:≤5.0 × 10-4?Pa
抽氣速率 裝片室:≤20 分鐘 (從大氣到 1.0×10-1?Pa)
工藝室:≤40分鐘(從大氣到5.0×10-3?Pa)
基板加熱溫度 可選150℃
工作條件
設備尺寸 5800 mm (寬) × 7700 mm (深)×3200 mm (高)
電源 3相, 380V ± 10%、130kVA、50/60Hz
水流量 ≥180升/分鐘
空氣壓力 0.5 MPa - 0.7 MPa
重量 約13000 kg