關(guān)于RPD系列

RPD-1000 (ITO/AlN)

RPD系列是高性能LED膜（ITO/AlN）低成本生產(chǎn)可能的反應性等離子源鍍膜機。

特征
通過(guò)反應性等離子源同時(shí)實(shí)現成膜材料的蒸發(fā)及活性化
通過(guò)能量鍍制高品質(zhì)的結晶膜
與常規蒸鍍相較，實(shí)現低溫、低成本量產(chǎn)
規格
真空室 Ф1000mm×H 1165mm
基板架 Ф870 mm
基板架轉速 10～30rpm
晶振式膜厚計 6點(diǎn)式水晶傳感器
蒸發(fā)源 反應性等離子源
性能
達到壓力 1.0E-4 Pa 以下
排氣時(shí)間 20分以下（大氣壓～1.3×10-3 Pa以下）
工作條件
設備尺寸 約4000 mm (W) × 6000 mm (D)×2800 mm (H)
電源 3相＋G,200V±5%, 約75KVA
水流量 80升/分以上
空氣壓力 0.5 MPa - 0.7 MPa
重量 約4000 kg